زدایش لایه اتمی

زُدایش لایه اتمی یک فنّ نوظهور در ساخت نیم‌رسانا است که در آن یک توالی متناوب بین مراحل اصلاح شیمیایی خودمحدودساز که فقط لایه های اتمی بالایی ویفر را تحت تأثیر قرار می دهد…

图奥莫·松托拉

图奥莫·松托拉（Tuomo Suntola，），芬兰发明家和技术领先人物，以其在材料科学方面的开拓性研究而著称. 他开发了名为“原子层沉积”的薄膜增长技术，并因该技术获得了2018年的千禧年科技奖.

Osadzanie warstw atomowych

Osadzanie warstw atomowych (ang. Atomic Layer Deposition, ALD) - metoda chemiczna służąca do uzyskiwania cienkich warstw o grubościach atomowych.

Tuomo Suntola

Tuomo Suntola

Atomic Layer Deposition

Atomlagenabscheidung

Die Atomlagenabscheidung (, ALD) ist ein Verfahren zur Abscheidung von extrem dünnen Schichten, bis hin zu atomaren Monolagen, auf einem Ausgangsmaterial.

List of multiple discoveries

Historians and sociologists have remarked the occurrence, in science, of "multiple independent discovery".

Valentin Aleskovsky

Valentin Borisovich Aleskovsky (3 June 1912 - 29 January 2006) was a Soviet scientist and administrator known for his pioneering research on surface reactions…

Atomic layer deposition

Atomic layer deposition (ALD) is a thin-film deposition technique based on the sequential use of a gas phase chemical process.

Atomic layer etching

Atomic layer etching is an emerging technique in semiconductor manufacture, in which a sequence alternating between self-limiting chemical modification steps which…

Atomic layer epitaxy

Atomic layer epitaxy (ALE), more generally known as atomic layer deposition (ALD), is a specialized form of thin film growth (epitaxy) that typically deposit alternating…

原子層エッチング

原子層エッチング（げんしそうエッチング、Atomic Layer Etching：アトミックレイヤーエッチング、略称ALEもしくはALEt）とは、ウエハの最表面原子層にのみ作用する化学修飾工程と、化学修飾された部分のみを除去するエッチング工程を交互に繰り返すことによって、原子層単位でのエッチングを行う半導体製造工程における技術である。なお…

Tuomo Suntola

Tuomo Suntola

Tuomo Suntola (born 1943) is an Finnish scientist who carried out pioneer in materials science, developing the thin film growth technique called Atomic Layer Deposition.